晶片切割用超純水設(shè)備的主要特點介紹

1、連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定。

2、容易實現(xiàn)全自動控制。

3、無須用酸堿再生。

4、不會因再生而停機。

5、節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施。

6、產(chǎn)水率高(可達95%)。

7、無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設(shè)施。

8、占地面積小。

9、使用安全可靠,避免工人接觸酸堿。

10、降低運行及維護成本。

11、設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施。

12、安裝簡單、費用低廉。

13、設(shè)備初投資大。

新聞名稱:晶片切割用超純水設(shè)備的主要特點介紹
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