EDI水處理設(shè)備室應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代了傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水。EDI模塊的日常清洗及保養(yǎng)對于延長其使用壽命發(fā)揮著不可忽視的作用。

EDI水處理設(shè)備

雖然EDI模塊的進(jìn)水條件在很大的程度上減少了模塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會，但是隨著水處理設(shè)備運(yùn)行的時間的延展，EDI模塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生堵塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成脫鹽的沉淀。如果進(jìn)水中含有大量的該鎂離子（硬度超過0.8ppm）、co2和較高的PH值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI模塊進(jìn)行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

一、通常判斷EDI模塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進(jìn)行評估判定：

1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水排水量下降35%。

二、模塊堵塞的原因主要有下面的幾種形式：

1、顆粒/膠體污堵

2、無機(jī)物污堵

3、有機(jī)物污堵

4、微生物污堵

三、EDI清洗注意：

在清洗或消毒之前先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)則，切不可在組件電源滅有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。

超純水設(shè)備

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