企業(yè)Logo的發(fā)展趨勢

企業(yè)標志設計的未來趨勢

關于標志設計的未來走向,事實上,每個設計師都會有自己的觀點。我在這里提出的是我經過長期觀察積累的一些經驗,在結合一些作品的基礎上希望能對今后標志設計的特點做出一些總結。

標志設計發(fā)展到現(xiàn)代已經比較成熟,主要體現(xiàn)在其藝術性、規(guī)范性和適用性上。而下面我將介紹和分析的logo突破了哪些束縛,能更大膽,更前衛(wèi),更能搶占你的視線。

主要有以下幾個方面:

(1)三維建模得廣泛使用:

標志要更加立體。它通過前所未有的三維建模來傳遞更多的視覺信息,三維造型標識也可以細分為幾個層次進行更詳細的三維造型。

(2)材料和光澤的應用:

標志擺脫純色填充的限制。讓它有更豐富的材質和光澤。這種設計風格也受到其他相鄰設計區(qū)域的影響

(3)更加復雜生動的形象

標志設計的對象不再是單純的簡約造型。更多具有藝術性和表現(xiàn)力的形象層出不窮。豐富了設計素材的來源。甚至在一定程度上,插圖設計的風格也值得借鑒。

網頁名稱:企業(yè)Logo的發(fā)展趨勢
文章來源:http://bm7419.com/hangye/ggzz/n6251.html

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